隨著半導體工藝的快速發展,超純水的品質與資源效率已成為影響行業競爭力的重要因素。其中,超純水的品質直接影響到半導體產品的良率和性能,而循環利用率則影響企業的節水效能和降本增效能力。高頻科技作為一家聚焦于芯片制造等電子核心產業的超純水系統供應商,以創新為核心驅動力,推出了一系列圍繞超純水的創新解決方案,不僅為客戶創造了新的價值增長點,更為行業鑄就了全新競爭力。

創新引領超純水工藝革新,突破高端市場壁壘

在半導體制造過程中,超純水需達到極高的純度基準。具體而言,即水分子純度需達到99.9999999999%,電阻率應超過18.2MΩ·cm(25℃條件下)。同時,對于金屬離子、總有機碳(TOC)、溶解氧等雜質的含量也有嚴格的控制標準。這樣高標準、嚴要求的背后,反映了對生產技術的極致追求。正因為這些挑戰,該領域長期被國際廠商所壟斷。

在這一背景下,高頻科技憑借自主創新及深厚的行業經驗和技術積累,克服了超純水工藝中的諸多難題,其超純水系統制備的超純水純度可達ppt級別,離子含量僅萬億分之一,打破了境外廠商對國內超純水系統高端市場的壟斷。當前,高頻科技是國內極少數能夠在芯片領域提供超純水系統的企業,亦是國內首家具備12英寸14nm芯片產線超純水制備能力的系統供應商。

高頻科技在實現技術突破的同時,高度重視知識產權的積累和研發體系的持續優化,已圍繞超純水領域成功積累了超過70項知識產權,包括發明專利、實用新型專利和軟件著作權等。此外,隨著高頻科技創新研發基地的正式落成,將進一步提升關鍵核心技術自主創新能力,完善內部科技創新機制及開放合作體系。這不僅在新的競爭周期中為高頻科技贏得了先機,也為整個行業注入了新的活力和增值潛力。

水資源回收率90%,滿足降本增效與可持續發展需求

半導體行業既是“技術密集型”產業,也是“資源消耗型”產業。一個生產4萬片200納米晶圓的工廠日用水量約8000至10000噸,其中70%用于制超純水;升級至16/7納米工藝后,同產能12英寸晶圓廠日用水量增至約20000噸。水資源成本與環保壓力居高不下,進一步凸顯了水資源循環技術的重要性。高頻科技通過創新水處理工藝,將超純水制備過程中的水資源回收率提升至90%,較行業平均水平實現顯著優化,為企業節水降本帶去技術支撐。

具體而言,高頻科技電子級廢水處理技術通過多工藝結合,高效經濟地處理復雜芯片廢水,覆蓋超15種廢水類型,涵蓋了先進制程產線可能產生的所有廢水種類,兼顧處理效率高和低成本。同時公司憑借前瞻性設計能力和制程工藝理解能力,精心規劃工廠水資源平衡,確保30多種制程廢水得到合理分流與回用,最終實現了高達90%的用水制備回收率,在確保水質達標的基礎上,為企業節水效益提升,水資源的穩定和行業可持續發展貢獻了力量。

高頻科技通過超純水技術與解決方案創新,圍繞“品質提升、成本優化、資源可持續”三大核心維度,為半導體企業提供切實競爭力支撐。隨著中國半導體產業向高端化加速邁進,高頻科技將繼續以技術創新為引擎,助力行業鍛造全“芯”競爭力,為全球半導體供應鏈的多元化發展貢獻中國力量。